講演

  • すべて聴講無料
  • 事前登録者優先
  •  ※LIVE配信はありません

※空席があれば当日受付も行います。

セミナー会場F(西2ホール)

F-1114:30~15:10

基調講演『デジタルとフィジカルの交差点
〜メタバースとVRによる社会変革に向けて〜』

スマートフォンが我々の生活に変革をもたらしたように、メタバースとVRもその可能性を秘めた技術である。高性能で廉価なVRデバイスの登場により、エンターテイメントから大学教育まで、ソーシャルな活動が可能な広範囲の領域でその応用が進んでいる。VRの本質はゴーグルではなく、利用者に疑似体験を提供する能力である。物理世界とデジタル世界が高度に融合する社会において、我々はどのような目標を設定し、それを実現するためにソフトウェアとハードウェアの双方をどのように活用すべきかを解説する。

講師
雨宮氏

東京大学 情報基盤センター 教授

バーチャルリアリティ教育研究センター 教授(兼務)

雨宮 智浩 氏

出展者セミナー【リアル会場】

  • すべて聴講無料
  • 事前登録者優先

※空席があれば当日受付も行います。

招待状記載内容に誤りがありましたため、下記セミナーは実施いたしません。 ご了承ください。
E-06 11月29日(水)15:30~16:10 株式会社アルバック

セミナー会場F(西2ホール内)

F-0413:30~14:10

『チャンバー内のプロセスコントロールを実現する "はかる" 技術!』

(株)堀場エステック

F-0514:30~15:10

『新型機種「小型オイルクリーナーSUN-40B」及びクリーナー全般の紹介』

大成技研(株)

F-0615:30~16:10

『光学半導体ARVRの成膜~ナノインプリントのソリューション』

(株)オプトラン

セミナー会場F(西2ホール内)

F-0912:30~13:10

『真空の常識を覆す新しい真空構造材0.2%BeCuとその応用』

東京電子(株)

F-1215:30~16:10

『高濃度・高純度オゾンが切り開く次世代アプリケーション』

明電ナノプロセス・イノベーション(株)

セミナー会場E(西1ホール内)※真空展エリア(西2ホール)から少し離れた会場になります。

E-1114:30~15:10

『真空プロセスの最適化の鍵:アルバック計測機器の役割』

(株)アルバック




セミナー・フォーラム他

F-01光学薄膜研究会セミナー
[定員:100名]

会場:西2ホール内 セミナー会場F

参加費無料

日時10:15~12:50(受付10:00~)


光学薄膜業界を支える企業技術紹介

光学薄膜研究会は、日本の光学薄膜業界の発展を目的として、2011年より活動を開始しました。
現在、法人会員は138社となり、光学薄膜に関する技術を協議、勉強することで業界全体の技術向上、ISO・JIS規格作成、環境試験の標準ルール化、学術講演会支援などの活動を行っています。
この度、光学薄膜研究会は「光学薄膜業界を支える企業技術紹介」を真空展内の「セミナー会場」にて開催いたします。本セミナーは、光学薄膜研究会会員企業にて無料で講演致しますので、たくさんのご参加を心よりお待ちしております。


講座内容

10:15~10:35「アジレント分光光度計の世界」
 アジレント・テクノロジー(株) 分光分析営業部 西村 新
10:35~10:55「樹脂基板向け蒸着材料」
 (株)ソルテック 技術部 青木 智則
10:55~11:15「DLC膜の摩擦摩耗・密着強度・耐荷重能評価事例」
 (株)レスカ 営業部門 宝泉 俊寛
11:30~11:50「光学薄膜の機械的物性評価と事例」
 (株)アントンパール・ジャパン ビジネスユニットキャラクタリゼーション アプリケーションスペシャリスト 森垣 史人
11:50~12:10「機能性薄膜材料の開発動向」
 稀産金属(株)生産技術開発部 猪俣 崇
12:10~12:30「分光光度計による光学薄膜の特性評価方法と事例紹介」
 (株)日立ハイテクサイエンス 分析開発設計本部 応用技術開発グループ 技師 岩谷 有香
12:30~12:50「最新光学薄膜設計ソフトウェアOTF Studioの性能」
 (有)ケイワン 代表取締役 鬼崎 康成 

定員となり次第締切とさせていただきます

X-01,06,12はじめて真空[定員:各回30名]

会場:西ホール2階 西1-商談室(6)
行き方はこちらをご覧ください

日時各日 10:15~11:30(受付9:45~)合計3回

参加費[資料代・消費税込み]一般…4,000円/学生…1,500円(1日につき)
※参加費は6展合同サイト内「講演・セミナー」ページよりクレジットカードにてお支払いください。


初めての方の真空体験

様々な演示実験を通じて「真空」を体験いただきながら、真空の5つの効果(圧力差・熱が伝わりにくい・蒸発しやすい・衝突しにくい・放電)とその利用について、わかりやすく説明します。この講座と真空入門講座の2つの講座の受講をお勧めします。


講座内容

1.真空の5つの効果
2.演示実験(ペットボトルの排気、マグデブルグの半球、ガラス容器に入れた炭酸水の排気等)

■担当講師
X-0111/29(水)山口大学 大学院創成科学研究科 准教授 栗巣 普揮
X-0611/30(木)(株)シンクロン 品質保証部  日向 裕子
X-1212/1(金)神港精機(株) 装置事業部 事業企画部 部長代理 冨山 泰輔

定員となり次第締切とさせていただきます

X-04,09,14真空入門講座[定員:各回30名]

会場:西ホール2階 西1-商談室(6)
行き方はこちらをご覧ください

日時11月29日(水)~12月1日(金)各日 13:00~15:00(受付12:30~)合計3回

参加費[資料代・消費税込み]一般…4,000 円/学生…1,500 円(1日につき)
※参加費は6展合同サイト内「講演・セミナー」ページよりクレジットカードにてお支払いください。


真空の基礎を理解するためのガイド

これから真空産業に関わる方々が、真空の基礎的な事柄・知識を得るためのミニ講座です。特に、今回初めて真空展に来場される方はこの講座を受講いただくことで会場内の展示物への理解が深まりますので是非、ご参加ください。



講座内容

1.真空の歴史 2.真空の基礎 3.真空計測 4.真空ポンプ 5.真空用材料 6.真空部品 7.真空装置の構成
■担当講師
X-0411/29(水)山口大学 大学院創成科学研究科 准教授 栗巣 普揮
X-0911/30(木)入江工研(株) 執行役員 リスクマネジメント室 室長 岡田 みゆき
X-1412/1(金)工学院大学 教育支援機構 特任教授 関口 敦

定員となり次第締切とさせていただきます

X-03,05,08,11,13,15
薄膜の基本技術講座[定員:各回40名]

会場:西ホール2階 西2-商談室(2)
行き方はこちらをご覧ください

日時

参加費[資料代・消費税込み]一般…6,000円/学生…1,500円(1講座につき)
※参加費は6展合同サイト内「講演・セミナー」ページよりクレジットカードにてお支払いください。


半導体、電子部品産業で役立つ真空工学・薄膜作製技術やプロセスの基本技術が学べます

薄膜作製技術は真空工学の重要な応用技術です。
本講座では薄膜作製に使われる真空環境構築に必要な超高真空技、超高真空装置内の気体分子の動き、そして産業的にも重要な成膜法であるスパッタリングについて解説します。また、実際のデバイス製造へ実用化されている薄膜作製・加工・評価技術や製造装置についても解説します。さらに社会的課題の解決に直結し、水素社会・カーボンニュートラルに貢献する表面科学について紹介します。
全6回の講座ですが、それぞれの専門に特化した別々の内容となっています。


講座内容

X-0311/29(水)12:30~14:30(受付12:00~) 「超高真空技術」
(国研)日本原子力研究開発機構 先端基礎研究センター 研究副主幹/日本表面真空学会 教育・育成委員 山川 紘一郎

詳細はこちら

1.超高真空の基礎
2.超高真空材料
3.真空ポンプと真空計
4.装置製作技術
5.薄膜と超高真空


*超高真空技術は、半導体やフラットパネルディスプレイの産業分野に不可欠であり、成膜の分野においても、薄膜の品質を高める上で大変重要です。本講座では、超高真空に関する知識とノウハウを具体的かつ丁寧に説明します。基礎から超高真空技術を学びたい方、装置の製作・改良・運用技術を磨きたい方は、是非ご参加下さい。

X-0511/29(水)15:00~17:00(受付14:30~) 「画像でみる超高真空装置内の気体分子の流れ」
 高エネルギー加速器研究機構 教授/日本表面真空学会 教育・育成委員 谷本 育律

詳細はこちら

1.分子流領域における気体分子運動論のおさらい
2.モンテカルロ法による気体分子運動シミュレーション
3.粒子加速器、成膜装置など、様々な条件の超高真空装置への応用例


*超高真空装置の内部で気体分子がどのように流れているか、うまく頭の中でイメージできていますか?この目に見えない気体分子の振るまいを把握しておくことは、例えば短時間で目標圧に達する真空装置を設計したり、運転技術を習得したりするのに役立ちます。近年では気体分子の流れを比較的容易にPC画面上に3次元で描くことができるようになっており、本講義では主にMolflow+と呼ばれるシミュレーションコードを用いて気体分子の流れを可視化してイメージしやすくします。真空に興味のある初心者から超高真空装置の設計者まで、多くのご参加をお待ちしております。
注)本講座の内容の一部は、真空夏季大学真空応用技術講座と重複しますのでご注意下さい。

X-0811/30(木)12:30~14:30(受付12:00~) 「サブナノメートル半導体デバイス製造にむけたプラズマプロセス技術」
 大阪大学大学院 工学研究科 マテリアル生産科学専攻 教授 浜口 智志

詳細はこちら

1.プラズマプロセスの基礎
2.原子層堆積(ALD)
3.原子層エッチング(ALE)
4.プラズマプロセス制御の高精度化


*近年、微細化の限界に近づいた最先端半導体デバイスは、新規材料の導入や3次元構造化により、その製造が極めて複雑となり、原子精度の加工技術の確立が急務となっています。本講義では、原子精度加工をリードするプラズマプロセス技術、特に、ALDやALE技術の基礎について解説し、かつ、人工知能(AI)を用いた高精度プロセス制御の可能性についても紹介します。

X-1111/30(木)15:00~17:00(受付14:30~) 「スピントロニクスデバイスの製造装置」
 キヤノンアネルバ(株) 取締役・最高技術責任者 恒川 孝二

詳細はこちら

1.スピントロニクスデバイスの種類
2.スピントロニクスデバイスの構造と製造プロセス
3.スピントロニクスデバイスの製造装置


*電子の持つ電気(電荷)と磁気(スピン)の2つの性質を同時に利用するスピントロニクスデバイスは、半導体デバイスなどと比較すると比較的最近普及したデバイスです。ですが実は様々な分野で使用されています。本講義では、代表的なスピントロニクスデバイスであるハードディスクドライブの磁気ヘッド、磁気抵抗メモリ(MRAM)、および磁気センサーについて紹介し、その構造と製造プロセス、製造装置について解説します。

X-1312/1(金)12:30~14:30(受付12:00~) 「水素社会・カーボンニュートラルに貢献する表面科学」
 筑波大学  物質工学域 教授/日本表面真空学会 教育・育成委員 近藤 剛弘

詳細はこちら

1.CO2の振動エネルギーが駆動する表面化学反応
2.水素を「つくる」技術で重要な電極触媒材料
3.水素を「ためる」技術で重要な新材料
4.水素を「つかう」技術で重要な電極触媒材料


*カーボンニュートラルの実現に向けて水素を利活用する技術や二酸化炭素の転換技術が注目されています。本講座では、二酸化炭素からメタノールを合成する銅系触媒における最初の反応ステップである二酸化炭素の水素化反応に関する最近の研究成果や、水素を利活用するための新しい材料に関する研究成果について表面科学の分析技術の観点から紹介します。

X-1512/1(金)15:00~17:00(受付14:30~) 「スパッタ薄膜の組成及び構造制御」
 東海大学工学部 電気電子工学科 教授 沖村 邦雄

詳細はこちら

1.スパッタ法の原理及びプラズマ特性とその制御
2.スパッタ成膜のプロセス圧力と成膜温度と堆積膜の組成及び構造
3.反応性スパッタ法による酸化物薄膜堆積の特長と応用例
4.基板バイアス印加の効果と構造制御の例


*本講座では産業において薄膜堆積に多用されているスパッタ成膜法について、そのプロセスの基礎から応用及び薄膜物性との関係について解説します。スパッタ法の原理及びプラズマ特性について紹介した後、プロセス圧力や基板温度などの成膜パラメータが薄膜の組成や構造にどのように影響するか解説します。酸素を導入する反応性スパッタによる酸化物薄膜堆積について詳しく解説します。具体例として光学薄膜や透明導電膜、相転移酸化膜を取り上げ、組成及び膜構造や界面の状態と膜物性との関連を検討します。講師が行ってきた基板バイアス印加の効果についてもご紹介します。
注)本講座の内容の一部は、真空夏季大学と重複しますのでご注意下さい。

定員となり次第締切とさせていただきます

X-02学生ツアー[定員:20名]

集合場所:西2ホール2階 西-2商談室(6)
行き方はこちらをご覧ください

参加費無料、昼食付

日時10:15~12:00(受付10:00~)


真空業界へ、より理解を深めたい学生に向けた会場ツアーです。各出展者の技術・製品を分かりやすくお話しします。
ツアーでしか知ることが出来ない様々な情報を得られる、またとないチャンスです。学生の皆さんぜひご参加ください!

定員となり次第締切とさせていただきます

X-07作業安全教育講座[定員:30名]

会場:西ホール2階 西2-商談室(6)
行き方はこちらをご覧ください

参加費無料

日時10:30〜12:30(受付10:00~)


貴社の安全対策は万全ですか?作業安全を見直す為の講座です。

真空機器の製造及び取扱環境の中で、作業安全や、健康維持、保全作業に係る講座です。


講座内容

1.「見えない物の危険性とその対策」
(株)シンクロン サービス事業部 本多 博光
2.「電気はなぜ危険なのか?労働災害の事例・原因・対策について」
(独)労働者健康安全機構 労働安全衛生総合研究所 三浦 崇
3.「真空機器周辺の危険性と対策」
 キヤノンアネルバ(株) ソリューション技術部 堀田 和貴

定員となり次第締切とさせていただきます

X-10環境トピックス[定員:30名]

会場:西2ホール2階 西-2商談室(6)
行き方はこちらをご覧ください

参加費無料

日時14:00~16:00(受付13:30~)


初心者向け環境法令Basic講座

従来耳にしていた環境のキーワードが、SX、GXなどと表現されることが増えてきました。SXとはサステナビリティトランスフォーメーション、GXとはグリーントランスフォーメーションのことですが、文字だけが一人歩きしている雰囲気もあります。各ワードとして聞いたことはあるものの「具体的に何から手を付ければ良いの?」、「基本的なところから簡単に教えてよ!」と、思われている方も多いと思います。
今年もそんなあなたへピッタリの講座を開催いたします。一部講座では、事例なども多く紹介できるように工夫し、初心者の方にもわかりやすく解説いたします。今から勉強したいと思われている方必見のプログラムです。


講座内容

1.「化学物質の管理について(国内法の解説 安衛法・化管法など基礎情報)」
(株)MORESCO 機能材営業部 東日本営業一課 佐藤 允彦
2.「JVIA 会員企業環境アンケートにおける各社の省エネ・脱炭素の環境対策および省エネ・脱炭素・産廃削減に対する困りごと」
 住友重機械工業(株)精密機器事業部 企画管理部 乃美 和博
3.「身近なSDGsの取組みについて(初歩情報からJVIA会員企業の取組みについて)」
(株)大阪真空機器製作所 総務部 佐々木 光

定員となり次第締切とさせていただきます

F-13規格標準報告会[定員:100名]

会場:西2ホール内 セミナー会場

参加費無料

日時10:30~12:10(受付10:00~)


核融合と真空技術の国際規格動向

日本表面真空学会(JVSS)と日本真空工業会(JVIA)は、「規格標準合同検討委員会」を組織して真空技術に関するJISやISO規格の提案・検討を協力して行っております。
主要エネルギー源である化石燃料や再生可能エネルギーに次ぐ次世代エネルギーであり、安全性が高くカーボンニュートラルの実現として期待される「核融合発電」に向けた国際的なプロジェクト「ITER」が進行中です。そこで特別講演として、量子科学技術研究開発機構の柏木美恵子様をお招きして、ITER計画の状況や今後の展開についてご講演いただきます。
また、規格標準合同検討委員会の取組として、今年の6月に実施されたISO/TC112真空技術専門委員会の報告、クライオポンプやNEGポンプの性能試験方法のISO規格化及び、真空ポンプ用語のJIS改正など最近の真空技術に関するISO・JIS制改定状況について報告いたします。


講座内容

1.「ITER NBI の真空技術 高電圧絶縁とトリチウム境界 ~核融合発電に向けた品質保証の確立に向けて~」
 (国研)量子科学技術研究開発機構 量子エネルギー部門 那珂研究所 柏木 美恵子
2.「ISO/TC112真空技術専門委員会報告及び、クライオポンプの性能試験方法 / NEGポンプの性能試験方法」
 住友重機械工業(株) 谷津 貴裕
(国研)産業技術総合研究所 吉田 肇
3.「JIS Z 8126-2 真空ポンプ及び関連用語 改正」
 (株)荏原製作所 田中 敬二
4.「規格標準合同検討委員会活動報告 ~最近のISO・JISの制改定等について〜」
 キヤノンアネルバ(株) 神田 浩二

定員となり次第締切とさせていただきます

F-15真空フォーラム・シンポジウム
[定員:100名]

会場:西2ホール内 セミナー会場F

参加費無料

日時13:00~17:00


量子コンピュータの現状と将来

最近、よく聞くようになった”量子コンピュータ”。GoogleやIBMの開発だけでなく、理化学研究所が国産量子コンピュータのクラウド利用を開始する等、盛り上がりを見せています。量子コンピュータは、既存のスーパーコンピュータをはるかに上回る計算が出来ると言われていますが、エラー訂正機能が必要等実用までに解決しなければならない課題が多いことも事実です。
本フォーラム・シンポジウムでは、日本を代表する第一人者の先生方に量子コンピュータとはなにか、なにが出来るのか、どのような方式があるのか、どのようなビジネスに適しているのかを語っていただきます。コンピュータの進化が新たな段階に入った時、真空産業が担う役割はどのように変化するのか議論のきっかけとなれば幸いです。


講座内容

13:00~13:05 「開会挨拶」
(一社)日本真空工業会 常任理事 冨田 良幸


13:05~13:45 「量子コンピュータの最新動向」
 blueqat(株) 代表取締役 湊 雄一郎

詳細はこちら

最近新しい原理で動作する計算機である量子コンピュータが注目されている。現在世界中で開発が進む量子コンピュータには利用する計算素子の種類によって様々な方式が立ち上がっている。その市場や利用方法、種類などを丁寧に説明する。また、簡単にその計算原理にもこれまでの計算機との違いにも触れて解説を行う。これまで量子コンピュータについて聞いたことがない方や、興味がある方など専門知識がない方向けの解説を中心に。

湊 雄一郎 氏

略歴

東京都生まれ。東京大学工学部卒業。
隈研吾建築都市設計事務所を経て、2008年にMDR(現blueqat)株式会社設立。
2008年環境省エコジャパンカップ・エコデザイン部門グランプリ、2015年総務省異能(Inno)vation最終採択、2017~19年内閣府ImPACT山本プロジェクトPM補佐、2019~2021年文科省さきがけ量子情報領域アドバイザー、2022年~SEMI量子コンピュータ協議会委員長を務める。
最近の研究テーマは深層学習・量子機械学習・テンソルネットワーク・テンソル分解など。


13:55~14:35 「量子スピード限界で動作する冷却原子型・超高速量子コンピュータ」
 自然科学研究機構 分子科学研究所 教授 / 研究主幹 大森 賢治

詳細はこちら

通常の室温下で、ほぼ絶対零度の原子1個1個を量子ビットとして用いる冷却原子型・量子コンピュータは、次世代を代表する量子コンピュータ・ハードウェアとして世界中の産学官の注目を集めている。特に、私たちが考案した「超高速量子コンピュータ」は、超高速レーザー技術と量子コンピュータを融合させるという全く新しいコンセプトに基づく新技術であり、熾烈な国際競争におけるわが国のコアコンピタンスとして期待されている。

大森 賢治 氏

略歴

1962年、熊本市生まれ。東京大学卒、同大学大学院博士課程修了、工学博士。専門は量子物理学・量子コンピュータ・量子シミュレータ。光と物質の相互作用を極めて高速に観測・制御する技術や、時空間における量子の波の振る舞いを超高精度で可視化する技術で、世界的に知られる。
2007年 日本学士院学術奨励賞、2009年 アメリカ物理学会フェロー表彰、2012年 フンボルト賞(ドイツ)、2021年 紫綬褒章など、受賞多数。
日本政府委員、政府代表なども数多く務め、わが国の科学技術政策の立案や、欧米との政府間会議においても重要な役割を果たしている。
高校・大学時代はオルタナティブ系の4ピースロックバンドを組み、メジャーデビューを目指していたという。


14:45~15:25 「光量子コンピュータの現状と展望」
 東京大学大学院 工学系研究科物理工学専攻 武田研究室 准教授 武田 俊太郎

詳細はこちら

現在、世界各国で多彩な方式で量子コンピュータ開発が進められる中、光量子コンピュータが異色のアプローチで躍進している。光量子コンピュータは、室温・大気中で動作し、量子通信との相性も良く、高速な計算処理も可能という特有の利点を持つ。本講演では、光量子コンピュータの基本原理や研究動向を紹介した上で、その大規模化を目指して我々が独自に開発を進める「ループ型光量子コンピュータ」とその応用について紹介する。

武田 俊太郎 氏

学歴

2010年3月 東京大学 工学部物理工学科 卒業
2012年3月 東京大学 大学院工学系研究科物理工学専攻 修士課程 修了
2014年3月 東京大学 大学院工学系研究科物理工学専攻 博士課程 修了

職歴

2014年4月~2016年5月 分子科学研究所 光分子科学研究領域 特任助教
2016年6月~2017年3月 分子科学研究所 光分子科学研究領域 助教
2017年4月~2019年3月 東京大学 大学院工学系研究科物理工学専攻 助教
2019年4月~2019年9月 東京大学 大学院工学系研究科総合研究機構 特任講師
2019年10月~現在 東京大学 大学院工学系研究科物理工学専攻 准教授


15:35~16:15 「シリコン量子コンピュータの開発」
(国研)理化学研究所 創発物性科学研究センター 量子情報エレクトロニクス領域 領域長 
 量子機能システム研究グループ グループディレクター 樽茶 清悟

詳細はこちら

近年超伝導を利用した量子コンピューターの開発が進んでいる。一方半導体による量子コンピューターは、コヒーレンスが長い、従来の集積技術と互換性がある、1ケルビン以上で動作可能である(超伝導は数10ミリケルビン)といった特徴があることから注目されている。最近まで量子コンピューターの基本的な性能の点で半導体は劣っていたが、漸く超伝導と同等になってきた。本講演ではこれら半導体量子コンピューターを構成する量子デバイスの開発状況と今後の課題について紹介する。

樽茶
                                                清悟 氏

学歴

1972年 3月 愛光学園高等学校 卒業
1976年 3月 東京大学 工学部 物理工学科 卒業
1978年 3月 東京大学 工学系研究科 修士課程 修了
1986年 9月 東京大学工学博士号取得

職歴

1978年4月 日本電信電話公社(武蔵野電気通信研究所基礎研究部)入社
(現NTT基礎研究所)
1985年9月 基礎研究部研究調査員(現主任研究員)
1986年7月〜1987年12月 マックスプランク固体研究所客員研究員
1989年4月 基礎研究所主幹研究員
1990年2月 基礎研究所研究グループリーダ
1994年2月 基礎研究所研究グループリーダ兼特別研究員
1995年7月〜10月 デルフト工科大学客員教授
1998年4月 東京大学大学院 理学系研究科 物理学専攻 教授
2005年4月〜2019年3月 東京大学大学院 工学系研究科 物理工学専攻 教授
2015年4月〜2017年3月 東京大学低温センター長
2007年4月〜2019年3月  東京大学ナノ量子情報研究機構 副機構長
2012年7月 理化学研究所創発物性科学研究センター
量子情報エレクトロニクス領域 領域長
同領域量子機能システム研究グループ グループディレクター(現在に至る)
2018年4月〜2023年3月 理化学研究所創発物性科学研究センター副センター長
2019年4月 東京理科大学大学院 理学系研究科 客員教授(現在に至る)
2019年6月 東京大学大学院 工学系研究科 名誉教授(現在に至る)
2021年4月 理化学研究所創発物性科学研究センター
半導体量子情報デバイス研究チーム チームリーダー(現在に至る)


16:25~16:30 「閉会挨拶」
(公社)日本表面真空学会 副会長 入江 則裕

定員となり次第締切とさせていただきます